標(biāo)題：次氯酸鈉發(fā)生器 1000克-云南水廠(chǎng)消毒設(shè)備

產(chǎn)品概述

次氯酸鈉發(fā)生器 1000克-云南水廠(chǎng)消毒設(shè)備

在城市供水系統(tǒng)中，消毒是基本的水處理工藝，它是用戶(hù)安全用水*的措施之一。次氯酸鈉發(fā)生器用于水廠(chǎng)消毒的幾大優(yōu)勢(shì)：
　　1、次氯酸鈉發(fā)生器制取工藝簡(jiǎn)單方便，使用原料購(gòu)置方便。
　　2、和創(chuàng)智云次氯酸鈉發(fā)生器制備溶液具備良好的消毒效果，適應(yīng)一定的水質(zhì)變化，具有一定的持續(xù)消毒能力。
　　3、次氯酸鈉發(fā)生器消毒設(shè)備及運(yùn)行成本低可以接受。
　　4、次氯酸鈉發(fā)生器實(shí)現(xiàn)流量控制和余氯控制，消毒液的投加量容易控制，消毒液的余量容易檢測(cè)，可以用來(lái)評(píng)判消毒效果。
　　5、原料是食鹽，原料運(yùn)輸存儲(chǔ)安全。

次氯酸鈉發(fā)生器 1000克-云南水廠(chǎng)消毒設(shè)備

近幾年主要推廣使用次氯酸鈉消毒法，但由于次氯酸鈉運(yùn)輸困難，目前使用次氯酸鈉發(fā)生器進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)制備次氯酸鈉消毒液的方式。次氯酸鈉發(fā)生器現(xiàn)場(chǎng)制備次氯酸鈉溶液其實(shí)主要利用水、電、鹽通過(guò)電解的方式現(xiàn)場(chǎng)制備低濃度次氯酸鈉溶液。次氯酸鈉現(xiàn)場(chǎng)制備系統(tǒng)由軟水制備、溶鹽池、次氯酸鈉發(fā)生器及配套電源、次氯酸鈉儲(chǔ)存及安全排氫聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)、次氯酸鈉投加系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)組成。制備完成的次氯酸鈉溶液和少量氫氣進(jìn)入脫氫系統(tǒng)，采用風(fēng)機(jī)鼓入新風(fēng)完成低濃度排氫， 次氯酸鈉溶液進(jìn)入存儲(chǔ)桶等待投加。整個(gè)過(guò)程中， 需要人工操作的僅是原料食用鹽的投加工作，非常便捷。

次氯酸鈉發(fā)生器參數(shù)：
　　電源：次氯酸鈉發(fā)生器輸入電源應(yīng)為：AC 220V/380V±10% 50HZ±5%
　　電解電流調(diào)節(jié)范圍應(yīng)大于額定電解電流的±10%。
　　次氯酸鈉發(fā)生器在工作狀態(tài)下應(yīng)能設(shè)備的額定產(chǎn)率，并能超額定產(chǎn)率10%安全工作1h。
　　設(shè)備使用的電解液濃度范圍為30～50g/L。進(jìn)行設(shè)備性能試驗(yàn)的全過(guò)程應(yīng)采用在此范圍內(nèi)選定的固定濃度的電解液。

管理與保養(yǎng)

（1）發(fā)生器應(yīng)由專(zhuān)人管理，熟悉各部件性能及使及方法；鹽水配制要準(zhǔn)確；

（2）保護(hù)電；清洗電板：原水的硬度會(huì)影響板結(jié)垢，板結(jié)垢時(shí)，槽電壓升高，電流明顯下降時(shí)，將影響產(chǎn)量并增加電耗。根據(jù)原水硬度應(yīng)定期清洗板，水總硬度在350mg/l（CaCO3計(jì)）以下時(shí)，約18-20天清洗一次。硬度大時(shí)減小清洗周期。清洗方法如下：拆下電解槽頂板，拆下結(jié)垢板（陰板），（工業(yè)鹽酸1份加水4份）浸泡，待板上的結(jié)垢溶解后（約幾分鐘）取出板用水沖洗即可使用。廢酸供下次使用（清洗板用軟毛刷）。陽(yáng)板用清水沖洗，安裝板時(shí)注意正負(fù)板的安裝位置，正板串聯(lián)，負(fù)板串聯(lián)，嚴(yán)禁接錯(cuò)。（陽(yáng)板表面有涂層?。﹪?yán)防摩擦碰擊，以免損壞板表面涂層。安裝時(shí)保持板平行間距。

（3）板發(fā)現(xiàn)鈍化：表面涂層有損，槽電壓增加，電流明顯下降時(shí)應(yīng)更換新板。

定期擦拭陰陽(yáng)接線(xiàn)耳和螺絲，必要時(shí)要定期更換，防止銹蝕過(guò)重，影響設(shè)備運(yùn)行。

（4）運(yùn)行電流、電壓不要超過(guò)發(fā)生器規(guī)定的電流，外界電壓等對(duì)運(yùn)行電流有影響，應(yīng)注意調(diào)節(jié)使用在安全范圍內(nèi)。

（5）保持鹽水箱的清潔，鹽要干凈無(wú)雜質(zhì)，若使用粗鹽時(shí)必須另加過(guò)濾裝置。

（6）次氯酸鈉溶液不易久存，夏天當(dāng)天生產(chǎn)，當(dāng)天用完，冬天貯存時(shí)間不得超過(guò)一周，并須采取避光貯存。